通知公告
学术报告——中国集成电路制造装备发展创新之路

作者: 时间:2018-10-18 来源:机械工程学院 点击率:10

报告题目:中国集成电路制造装备发展创新之路

 

人:傅新,浙江大学求是特聘教授、博士生导师

 

报告时间:20181023  15:30

 

报告地点:6教研楼北310

 

报告人简介:

傅新,浙江大学求是特聘教授、博士生导师。1982年毕业于成都科技大学获学士学位,1990年毕业于西南农业大学获硕士学位,1998年毕业于奥地利莱奥本大学获博士学位。1982年至1996年在西南农业大学农业工程学院任教,1999 年至今在浙江大学机械工程学系,2005年至2009年任浙江大学流体传动及控制国家重点实验室主任,2009年至2012年任浙江大学机械工程学系副主任,2012年至今任浙江大学机械工程学院教授委员会主任。研究方向为流体传动及控制技术,近年来主要从事光刻机浸液系统及其超洁净流控元件研究。承担国家重大科技专项、自然科学基金、973计划、863计划、科技攻关与支撑计划、以及省部级科技计划项目30余项。获国家科技进步二等奖1项、教育部科技进步奖一等奖2项、浙江省科技进步一等奖1项和二等奖2项。获授权发明专利117项。发表学术论文200余篇,其中SCI检索论文100余篇。

 

附:

浙江启尔机电技术有限公司主要从事微电子制造装备。公司前身为浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室的科研团队,该团队自2004年以来,在国家863计划和国家重大专项等科研项目支持下,对“光刻机浸液系统”开展了十余年的技术攻关和产品研发,拥有国内领域最强技术积累和100余项发明专利。公司主要产品光刻机浸液系统是浸没式光刻机的四大核心部件之一,得到国家02重大科技专项支持。2013年团队转型为公司化运行,使研发和管理体系得到不断完善。公司在青山湖科技城建设光刻机浸液系统产品研制与小批量生产基地。未来,公司将继续依托浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室等国家级研究平台,专注于光刻机浸液系统及其超洁净流控元件的研发和生产,矢志成为我国半导体装备产业的核心企业。